- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體使用臭氧水清洗處理方法 ①減少化學藥品的使用 a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫條件下發生作用 . . .
- ALD、半導體用臭氧發生器有哪些品牌
近些年半導體、ALD蓬勃發展，臭氧被電子工業用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應用。我們介紹幾款能滿足半導體行業用的 臭氧 發生器 。 1、美國SEMOZON A . . .
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