- 半導體使用臭氧水清洗處理方法
半導體使用臭氧水清洗處理方法 ①減少化學藥品的使用 a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫條件下發生作用 . . .
- 硅片清洗的幾種方法
硅片清洗的幾種方法 20 世紀70 年代以前，清洗半導體材料所用的方法仍是較為傳統的方法，主要為機械法和化學法。機械法采用在清洗劑中進行超聲或刷子刷洗。前一種方法常引起硅片 . . .
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